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제품 소개GGG 크리스탈

10mm X 10mm X 0.5mm 반도체 에피택시 필름 성장 GGG 결정

인증
중국 ANHUI CRYSTRO CRYSTAL MATERIALS Co., Ltd. 인증
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10mm X 10mm X 0.5mm 반도체 에피택시 필름 성장 GGG 결정

10mm X 10mm X 0.5mm 반도체 에피택시 필름 성장 GGG 결정
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큰 이미지 :  10mm X 10mm X 0.5mm 반도체 에피택시 필름 성장 GGG 결정

제품 상세 정보:
원래 장소: 중국
브랜드 이름: Crystro
인증: ROHS
모델 번호: 1GGG10*10*0.5-B
결제 및 배송 조건:
최소 주문 수량: 1개 부분
가격: Negotiable
포장 세부 사항: 카톤 박스
배달 시간: 3-4 주
지불 조건: 전신환, 웨스턴 유니온, MoneyGram,PayPal
공급 능력: 주 당 100 PC
상세 제품 설명
프로덕션명: ggg 기질 화학식: Gd3Ga5O12
Lattic 모수: a=12.376Å 차원: 10mm X 10mm X 0.5mm
비중: 7.13g/cm3 모스 경도: 8.0
융해점: 1725℃ 굴절률: 1064nm에 1.954
오리엔테이션: (111) 폴란드어: 한쪽면 광택
하이 라이트:

에피택시 필름 성장 GGG 크리스탈

,

반도체 에피택시 GGG 크리스탈

,

반도체 에피택시 GGG 기판


 

반도체 에피택시 필름 성장을 위한 GGG 10mm X 10mm X 0.5mm 기판

 

 

GGG 기판, 가돌리늄 갈륨 석류석(GGG)은 자기 광학 필름 전용 기판입니다.광통신기기에서는 1.3μ와 1.5μ의 광 아이솔레이터를 많이 사용해야 하며, 그 핵심 부품은 자기장 속에 놓인 YIG나 BIG 필름이다.이 광자기 재료와 최상의 격자 일치를 달성할 수 있는 서로 다른 접선의 GGG 단결정 기판, 따라서 YIG, BIG 필름 에피택셜 성장을 성공적으로 보장합니다.
GGG는 우수한 물리적 및 기계적 특성과 화학적 안정성을 가지고 있습니다.GGG는 제작된 마이크로웨이브 아이솔레이터를 위한 최고의 기판 재료입니다.

 

 

주요 이점:

 

2.8 ~ 76mm의 큰 치수.

낮은 광학 손실(<0.1%/cm)

높은 열전도율(7.4W m-1K-1).

높은 레이저 손상 임계값(>1GW/cm2)

 

 

주요 속성:

 

화학식 5영형12
격자 매개변수 a=12.376Å
성장 방법 초크랄스키
밀도 7.13g/cm
모스 경도 8.0
녹는 점 1725℃
굴절률 1064nm에서 1.954

 

 

 

 

 

 

 

 

 

CRYSTRO는 다음을 제공할 수 있습니다.

 

정위 [111] ±15 arc min 이내
파면 왜곡 <1/4 웨이브@632
직경 공차 ±0.05mm
길이 공차 ±0.2mm
모따기 0.10mm@45º
평탄 633nm에서 <1/10 파장
병행 < 30초
수직 < 15 arc min
표면 품질 10/5 스크래치/파기
클리어 조리개 >90%
큰 차원의 수정 직경 2.8-76mm
 

제품 사진:

10mm X 10mm X 0.5mm 반도체 에피택시 필름 성장 GGG 결정 0

 

 

연락처 세부 사항
ANHUI CRYSTRO CRYSTAL MATERIALS Co., Ltd.

담당자: Chen Dongdong

전화 번호: +86 18326013523

팩스: 86-551-63840588

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