제품 상세 정보:
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프로덕션명: | ggg 기질 | 화학식: | Gd3Ga5O12 |
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Lattic 모수: | a=12.376Å | 차원: | 10mm X 10mm X 0.5mm |
비중: | 7.13g/cm3 | 모스 경도: | 8.0 |
융해점: | 1725℃ | 굴절률: | 1064nm에 1.954 |
오리엔테이션: | (111) | 폴란드어: | 한쪽면 광택 |
하이 라이트: | 에피택시 필름 성장 GGG 크리스탈,반도체 에피택시 GGG 크리스탈,반도체 에피택시 GGG 기판 |
GGG 기판, 가돌리늄 갈륨 석류석(GGG)은 자기 광학 필름 전용 기판입니다.광통신기기에서는 1.3μ와 1.5μ의 광 아이솔레이터를 많이 사용해야 하며, 그 핵심 부품은 자기장 속에 놓인 YIG나 BIG 필름이다.이 광자기 재료와 최상의 격자 일치를 달성할 수 있는 서로 다른 접선의 GGG 단결정 기판, 따라서 YIG, BIG 필름 에피택셜 성장을 성공적으로 보장합니다.
GGG는 우수한 물리적 및 기계적 특성과 화학적 안정성을 가지고 있습니다.GGG는 제작된 마이크로웨이브 아이솔레이터를 위한 최고의 기판 재료입니다.
주요 이점:
2.8 ~ 76mm의 큰 치수.
낮은 광학 손실(<0.1%/cm)
높은 열전도율(7.4W m-1K-1).
높은 레이저 손상 임계값(>1GW/cm2)
주요 속성:
화학식 | 신삼가5영형12 |
격자 매개변수 | a=12.376Å |
성장 방법 | 초크랄스키 |
밀도 | 7.13g/cm삼 |
모스 경도 | 8.0 |
녹는 점 | 1725℃ |
굴절률 | 1064nm에서 1.954 |
CRYSTRO는 다음을 제공할 수 있습니다.
정위 | [111] ±15 arc min 이내 |
파면 왜곡 | <1/4 웨이브@632 |
직경 공차 | ±0.05mm |
길이 공차 | ±0.2mm |
모따기 | 0.10mm@45º |
평탄 | 633nm에서 <1/10 파장 |
병행 | < 30초 |
수직 | < 15 arc min |
표면 품질 | 10/5 스크래치/파기 |
클리어 조리개 | >90% |
큰 차원의 수정 | 직경 2.8-76mm |
제품 사진:
담당자: Chen Dongdong
전화 번호: +86 18326013523
팩스: 86-551-63840588