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단일 결정 CaF2 플루오르화 칼슘 기판

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10*10*1mm LSAT 기판 얇은 필름 광학 단결정체 기판

페로 자성 박막 산화 마그네슘 산화마그네슘 기판

Nb :SrTiO3 니오븀 도핑된 티탄산 스트론튬 단결정체 기판

Film Growth Strontium Titanate Crystal Srtio3 Substrates

superconducting films Magnesium Oxide MgO Single Crystal Substrate

1 2 3 4 5

단결정체 기판

(17)

이트륨 안정화 지르코니아 YSZ 단결정체 기판
접촉

광학 기판 이트륨 안정화 지르코니아 (YSZ) 단일 결정 기판 도입 : 이트륨 도프 산화 지르코늄 (YSZ) 단결정체 기판은 우수한 소재가 박막 성장을 초전도시키는 고온에 사용했다는 것 입니다.그것은 좋은 미케니컬드 화확적 안정성을 가지고 있습니다 . 기술적인 매개 ... 자세히보기

2020-12-29 11:35:13

LSAT 란탄 스트론튬 알루미늄 탄탈 옥사이드 박막 기판
접촉

LSAT (란탄 스트론튬 알루미늄 산화 탄탈) 단일 결정 박막 기판 도입 : LSAT (스트론튬 탄탈 란타늄 알루미네이트)은 우수한 페로브스카이트 결정이고 쵸크랄스키법에 의해 성장될 수 있습니다. 그것은 고온 초전도체와 다른 산화성 물질로 최적화됩니다. 그것은 ... 자세히보기

2020-12-29 11:35:17

HTS 얇은 필름 CaF2 플루오르화 칼슘 단결정체 기판
접촉

HTS 얇은 필름 열벽 증착기를 위한 CaF2 플루오르화 칼슘 단결정체 기판우수한 광학 특성 CaF2 플루오르화 칼슘 단결정체 기판 도입 : CaF2 단일 결정은 페로브스카이트 구조와 우수한 광학 특성과 대부분의 재료와 우수한 래티스 매치를 가지고 있습니다. 그것은 ... 자세히보기

2020-12-29 11:35:14

고온 초전도 영화 산화알루미늄 Al2O3 기판
접촉

고온 초전도체 영화를 위한 고열 전도성 Al2O3 기판 도입 : Al2O3 (산화알루미늄)은 우수한 초전도용 박막 기판입니다. 이 자료는 여러 가지 장점을 가집니다 : 좋은 보온병 안정성, 고열 전도성과 높은 견고성. 그것은 또한 많은 다른 산업적, 국방과 안보와 과학... 자세히보기

2020-12-29 11:35:16

티탄산 스트론튬 SrTiO3 STO 단결정체 기판
접촉

티탄산 스트론튬 SrTiO3 STO 단결정체 기판 도입 : 티탄산 스트론튬 (SrTiO3) 기판이 일반적으로 고온 초전도용 산화물 얇은 필름을 위해 기판 물질로서 사용됩니다. SrTiO3 단일 결정이 대부분의 재료에 대한 좋은 래티스 매치에게 페로브스카이트 구조를 제... 자세히보기

2020-12-29 11:35:15

닦인 마그네슘 알루미네이트 MgAl2O4 스피넬단 결정 기판 일 측면
접촉

마그네슘 알루미네이트 MgAl2O4 첨정석 단결정체 기판 1.MgAl2O4 기판 도입 마그네슘 알루미나이트 스피넬 (MgAl2O4)는 입방 구조와 혼합 옥사이드이고 그것이 우수한 기판 물질로 간주됩니다. MgAl2O4(spinel) 단일 결정은 넓게 음파와 마이크로파 ... 자세히보기

2021-04-20 11:22:02

종합적인 3.60g/Cm3 첨정석 Mgal2o4 크리스탈 마이크로파 기판
접촉

MgAl2O4 스피넬 결정 기판 마이크로파 소자 기판 1.MgAl2O4 기판 도입 MgAl2O4 단일 결정 (MgAl2O4 첨정석은) 입방 결정 구조와 우수한 광학, 유전성이고 열이고 화학적 특성과 합성 물질입니다. 그것은 넓게 벌크 탄성파와 마이크로파 소자와 빠른 ... 자세히보기

2021-03-30 14:47:11

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